シリコンに液晶をコーティングした(LCOS) 型反射型SLM は純粋な位相アプリケーション用のユニークな設計。またそれと独立して常に新しいレートで直接アナログデータを届けるアナログドライブ技術により、リップルの殆どない安定した位相安定性を得ることが可能。反射型アナログSLM シリーズは反射型LCOS 技術に基づいている。

用途はビームステアリング、回折光学素子、スペクトルチューニング他各種応用に使用出来、紫外域から近赤外域まで対応可能。

◆超高速・高解像度液晶空間光変調器　 SLM-HSP-UHSP 1024x1024                                                

LCOS反射型SLM の超高速・高解像度モデルで1024x1024 個のピクセル（画素) の特大液晶板（シリコン　バックプレーン）により高出力レーザビームにも対応でき、 アナログドライブ技術と高いリフレシュレートにより、リップルが0.2％まで少なくなり、安定した位相変調が可能。この高出力対応バックプレーンSLM は液晶の早いレスポンスタイムと共に、安定した高速位相変調を行なえるので、高速・高回折効率でリップルの少ない位相変調を高出力レーザで行いたい場合のアプリケーションに最適。

SLM-HSP-UHSP 1024x1024は超高速応答を目的とし、最新の Gen3 x8 PCle高速デジタルコントロ－ラを採用する事で応答時間最短≤0.6ms@532nmにて位相リップル<0.2%で変調する事が出来る。これまでのPCleコントローラよりスムーズにトリガー入出力が可能で、1436.1Hzの高いフレームレートにて操作が可能。 超高速で高位相安定性を得るためには温度コントロールが効果的で、専用の液晶冷却システムを取り付けることを推奨している。                                                                                                                                                                                                                                                                              また高出力のパルスレーザやCWレーザに対応可能で、ピークパワー15GW/cm²まで対応できる。高平均出力レーザへの対応も冷却システムを使用する事で可能性が拡がる。                                                                                                                                                                                        

特長

●高速応答: UHSPモデル：≤0.6ms@532nm, ≤0.7ms@635nm, ≤0.9ms@785nm (488～850nm ARコート)

　　　　　　　　　≤0.7ms@532nm, ≤0.9ms@635nm, ≤1.2ms@785nm, ≤1.7ms@1064nm (500～1200nm ARコート)

　　　　　 HSPモデル：≤1.0ms@532nm, ≤1.3ms@635nm, ≤1.8ms@785nm (488～850nm ARコート)

●高回折効率：92～98%（ARコート付き）

●高解像度: 1024x1024ピクセル

●光利用効率：97.2%

●高分解能・高反射率
●低リップル: <0.2%
●高ピークパワー対応: 15GW/cm²

●高平均出力対応：>410W/cm²

●波長範囲：488nm ～ 1650nm

●トリガー入力・出力と同期が可能

仕様

●ピクセル構成： 1024x1024  
●有効アレイサイズ： 17.4x 17.4mm
●ピクセル間隔：　17μm x 17μm

＊オプティクスキット

LCOS SLM XY型を使用する際に便利なキットで、精密なリニアポラライザー、半波長リターダー、レンズ等SLM のアライメントを素早く出来る為のすべての光学系が含まれており、非常に簡単にシステムアップできる。
キットを使用することで、SLM 使用の各種応用・実験等に必要なシステムアップに要する時間が短縮でき、光学系の影響を最小限にすることが可能。

•Half-Wave Retarder
•a pair of Linear Polarizers

•Beam expander
•Lenses
•Tip/tilt stage
•Base plate and posts
•Laser and camera (optional)

用途

■2D/3Dビームステアリングで波面の位相変調に最適

*2軸（XY）SLMを使用したビームステアリング例　　　 

■顕微鏡内の光波シンセシス等の変調に最適

応用

◆ハイブリッド波面整形（STED 顕微鏡・マルチフォトン顕微鏡）
◆体積イメージング（ベッセルビーム）
◆パルス整形（CARS 顕微鏡、レーザマーキング、レーザ加工、レーザ通信）
◆HOT(Holographic Optical Tweezing)、光ピンセット、光操作

＊上記の高速・高解像度SLMの応用に関する文献

　★Imaging in Scattering or Turbid Media

　★Volumetric Imaging

　★Optogenetics

　★PSF Engineering

　★Pulse Shaping

　★General Microscopy

　★Holographic Optical Tweezing (HOT)

　　上記をご覧になりたい方はこちらからご連絡下さい。