LC社は1994年にVilnius University Laser Research Centerから設立されました。フェムト秒 OPAとYbべ－スのフェムト秒レーザ光源のパイオニアであり、それらの販売やOEM供給でこれまでに数千台以上を出荷した実績を持ち、連続波長可変ウルトラファーストレーザのリーディングカンパニーになりました。
長年のコリニア＆ノンコリニアOPAの開発技術、並びに高度なフェムト秒レーザの技術を基本としてハイエンドなシステムを開発しています。理科学分野で極短光パルスのキャリアエンベロープ位相(CEP)制御・安定化、そしてアプリケーションのニーズに応える為の光源を開発しています。
レーザの設計と製造設備、最先端の研究開発施設等により、産業用途や理科学用、そして医療用に対してもユニークなソリューションを提供しています。産業界では24/7稼働の何百ものレーザシステムが10年以上経過し、LC社製フェムト秒レーザの信頼性を証明しています。LC社の知恵と経験とより良い物を生み出そうとするプロフェッショナルチームの高い意識により、ハイクオリティと顧客の満足度に焦点を当てて、今後も更に進化していきます。
OPCPA 光パラメトリック チャープパルス増幅器システム Light Conversion社
高信頼性ハイエンドシステム OPCPA
|
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
High-dynamic-range 3rd autocorrelation measurement at 800nm
ORPHEUS-OPCPA CEP stability (800nm, 100kHz)
ORPHEUS-OPCPA CEP stability (3μm, 1kHz)
Hight-dynamic range of OPCPA-HE
OPCPA-HE output spectrum
OPCPA-HE pulse energy
|
OPCPA (Optical Parametric Chirped-Pulse Amplification）システムは、近年開発され現在得られるようになった技術により、理科学用途の応用において一番要求されるfew-cycleのパルス幅と同様に、高ピークパワーと高平均出力を同時に提供出来るシステム。長年培われたLC社のコリニア＆ノンコリニアOPAの開発技術、並びに高度なフェムト秒レーザの技術を基本として開発された最先端のカスタム可能なシステム。 極短光パルスのキャリアエンベロープ位相(CEP)制御・安定化が可能。更なる極端パルス、更なる高ピーク出力・高平均出力等、アプリケーションのニーズに応える為の光源。
特長 ●最小の極短パルスや最大のピーク出力・平均出力等が要求されるアプリケーション向けのカスタム光源 ●出力波長：800nm, 1600nm, 2000nm, 3000nm ●ピーク出力：TWレベル ●最短パルス幅：<6fs ●パルス繰返し：～1MHz ●CEP安定性<250mrad
◆ORPHEUS-OPCPA コンパクトFew-cycle CEP制御型 ( PHAROS又はCARBIDE励起タイプ) 特長 ●回折限界のパルス幅： <6fs ●最大繰返し周波数：1MHz ●最大平均出力：480W ●最大パルスエネルギー：0.8mJ ●コンパクト型、CEP安定化オプション (<250mrad )
◆OPCPA-HE 高エネルギータイプ ( ピコ秒Nd:YAGレーザ励起、ORPHEUS-OPCPAシード光源) 高エネルギーアト秒パルス生成、高度な高調波の生成、few-cycleのパルス幅や高いプレパルスコントラストにより得られるレーザエレクトロニクスの利点などのアプリケーションに最適。 特長 ●マルチ-TWのピークパワー＠1kHzのパルス繰返し ●出力波長：800nm, 1600nm, 2000nm ●few-cycleのパルス幅と高いプレパルスコントラスト ●<250mrad CEP安定性と<1.5%のエネルギー安定性 (一日中連続稼働において) ●空間的-時間的パルス整形オプション
|
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
