PHAROSは、Yb:KGW結晶をレーザ媒質に採用した高出力フェムト秒レーザ。ミリジュールレベルのパルスエネルギーと高平均出力を組合わせたフェムト秒レーザで、理科学用途の応用にも研究開発・産業用途にも対応できる様に、メカニカル的に光学的に設計されている。コンパクトで熱的に安定したシールドデザインにより、各種の光学系や機械のワークステーションと高度に統合することができる。PHAROSが最初に発売されてから2021.04で15周年を迎え、更なる進化を目指している。

ダイオード励起のYbレーザなので、メンテナンスコストを削減できレーザ寿命が長い。一方堅牢なオプトメカニカルデザインにより、どんな環境下でも安定した操作が可能。

PHAROSはチューナブル機能：パルス幅 (100fs～20ps)、パルスエネルギー (～4ｍJ)、パルス繰返し (single shot～1MHz)、平均出力 (～20W)等の可変パラメータにより多くのアプリケーションに対応できる。また内蔵のパルスピッカ―の機能により、パルス・オン・デマンドモードが得られ、出力、パルス繰返し周波数、照射タイミングも自由に正確にコントロール可能。

フェムト秒レーザの高出力・高エネルギー化と、高いパルス繰返し動作の実現により、高品位、高精度な加工をより高速に実現可能。
フェムト秒パルスにより、最小限の熱影響でデブリの少ないクリーンなアブレーション加工を実現可能。

ORPHEUS(OPA)と組み合わせると、可変波長にて高繰返し、高出力、高ビーム品質のフェムト秒パルスが得られるので、マルチフォトン顕微鏡、微細構造加工等に最適。

ORPHEUSについての詳細はこちらから

１台のPHAROSで複数台のOPA励起も可能。

24/7の産業用途でも豊富な実績があり、信頼性の高い超短パルスレーザなので、産業用グレードのオプション（I-OPA) が追加されている。

特長

●中心波長　　1030±10nm

●最大平均出力　20W (★PH2-4mJモデル : 20W,>4mJ,<450fs )(★PH2-UPモデル：20W, <100fs, 0.4mJ)
●パルス幅　100fs～20ps　PC制御可変 
●パルス繰返し周波数可変  シングルショット～1MHz

●最大パルスエネルギー　4mJ
●高品位なビーム品質　TEM00: M²<1.2 
●ワンボックスシールドパッケージ
●パルスピッカー内蔵によりパルスーオンーデマンド操作が可能

●堅牢で産業用グレードのメカニカルデザイン

●高度なサーマル安定化システム
●短いウォームアップタイム
●低ランニングコスト

●レーザヘッドに直付け可能な高調波オプション（自動切替・ 515nm,343nm,257nm,206nm)

●BiBurstオプション　GHz/MHzバーストパルス発生

●キャリアエンベロープ位相(CEP)安定化オプション

●パルス繰返し周波数ロックオプション

主な仕様                                           　              　　　　　　　　　                                          ★NEW

PHAROS_2022

★HG-PHAROS(高調波ユニット) は (2H, 2H-3H, 2H-4H, 4H-5H) モデルが有り、堅牢な産業用グレードのデザインでレーザヘッドに直付けでき、システムに統合する事が可能。ソフトウェアにより自動で波長切換え出来る。

★I-OPA for PHAROS (産業用グレード光パラメトリック増幅器)は、PHAROSレーザヘッドに直付け出来る波長ユニットで非常に広帯域に対応可能。自動チューナブルタイプと固定波長タイプが有り、対象材料の特性に合わせて、吸収のある波長、吸収の無い波長などを選択することが出来、様々な加工手法実現の可能性が拡がる。

●励起出力：40Wまで

●パルス繰返し：2MHzまで

★BiBurst (burst-in-burst 動作による可変GHz/MHz バーストの可能性) オプション

高エネルギーフェムト秒レーザ PHAROSにフレキシブルなBiBurst機能を追加することにより、新しいハイテクな製造産業(家庭電化製品、ICチップ製造、ステント切断、表面機能化、次世代ディスプレイ工場、量子コンピュータ等)において新たな生産の可能性を拓ける。

材料加工の拡張性：

◆脆い材料の孔加工・切断 ◆深堀加工 ◆材料選別アブレーション ◆透明材料内部加工 ◆非表示マーキング ◆表面研磨 ◆表面機能化

BiBurst 

用途

■マイクロマシニング
■マイクロ・ナノ構造の作製
■時間分解分光
■バイオメディカル
■ブラッググレーティング・ウェーブガイド製作
■マルチフォトン光重合など

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